Analisador UPW Sievers Boro Ultra Online
Monitoramento contínuo e on-line do boro até níveis de partes únicas por trilhão (ppt)
À medida que os chips semicondutores encolhem e se tornam mais complexos, a demanda por água ultrapura (UPW) de alta qualidade é crítica. Mesmo a menor contaminação pode causar defeitos significativos, tornando a detecção precoce de impurezas essencial na fabricação de microeletrônicos.
O que está em risco? Rendimento do produto, processos downstream e custos desnecessários.
O analisador Sievers Boron Ultra fornece monitoramento on-line contínuo e autônomo das concentrações de boro em processos UPW com sensibilidade de partes por trilhão (ppt). Isso oferece suporte à conformidade com as especificações de ciclo primário e de polimento e permite que os fabricantes otimizem o tempo de regeneração do leito de resina de troca iônica (IX). O monitoramento de boro é a estratégia mais proativa de controle do processo IX e é muito superior ao monitoramento de sílica ou de contaminação iônica.
Desempenho On-line e Otimização do Processo
O analisador Sievers Boron Ultra pode reduzir significativamente as despesas operacionais e manter a qualidade nos sistemas UPW.
O Boron Ultra detecta um aumento no boro antes da liberação de sílica, tornando-o uma ferramenta crítica para evitar o vazamento de sílica coloidal e iônica em água ultrapura. Ele é usado para prever a exaustão da resina IX de leito misto, otimizar o desempenho da eletrodeionização (EDI) e controlar os níveis de contaminação do ciclo primário e de polimento.
O Boron Ultra suporta o limite de boro de 50 ppt do International Roadmap for Devices and Systems (IRDS) em semicondutor UPW, auxiliando o controle de contaminação por boro e sílica.
O Sievers Boron Ultra foi projetado em cooperação com fabricantes de semicondutores para atender às necessidades de gerentes de instalações, proprietários de sistemas UPW e engenheiros de controle de processo UPW. O monitoramento de boro é a estratégia mais proativa de controle de processo de troca iônica e é muito superior ao monitoramento de sílica ou contaminação iônica.
- Sensibilidade de partes por trilhão (ppt)
- 20 pontos de dados por hora
- Conformidade com as especificações primárias e de malha de polimento
- Otimização da regeneração de resina de troca iônica
- Controle de contaminação por sílica e boro